ITO薄膜电性能红外光谱分析
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余刚刘静王慧!中国建筑材料科学研究总院"北京#9::!;#
摘要$本文论述了射频磁控溅射制备!"#薄膜温度和氧分压对薄膜光电性能的影响!利用四探针方法"红外光谱研究了不同工艺对面电阻"载流子浓度等电性能的影响#实验结果表明$在功率$%%&!溅射时间’%()*条件下!氧分压保持+,!%+-时薄膜面电阻随温度升高而降低!载流子浓度随温度升高而增加%在温度$%%"时面电阻随氧分压增加而增加!载流子浓度随氧分压增加而减小!并且可以看出氧分压的影响更为明显#关键词$!".薄膜%面电阻%载流子%红外光谱
中图分类号<1=>?>@?A文献标识码<B文章编号<>::ACDEFGH!99?I9!C99A!C9A
磁屏蔽的设计和应用上具有很大的潜力%
!前言
本文利用射频磁控溅射方法制备4!@薄膜"分别利用四探针&分光光度计测量薄膜面电阻和红外透过&反射光谱"并由红外光谱分析了薄膜制备工艺与电性能之间的关系%
透明氧化物薄膜!!"#"!$%&’(%$)&*+,&!
-./*01)#20-)#作为一种常用的透明导电薄膜"近
年来的研究和应用已占主导地位"其中氧化铟锡
3!#!4&5#678&$以其优异的光电性能得到广泛的应
用%4!#具有体心立方铁锰矿结构"是一种重掺杂&高简并的&型半导体材料"载流子浓度约9:;9/<=6"电导率可达9:>8?/<"4!@薄膜不仅具有优良的光电性能"还具有高硬度&耐磨性&耐化学腐蚀特性以及良好的可加工性能"这使它广泛应用于ABC&
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实验
试样制备
本实验采用射频磁控溅射方法制备4!@透明导电膜"靶材为4!@陶瓷靶!4&;@678&@;质量比为
F"9$"样品架与溅射靶面成>G#"中心距离9G/<"
并且样品架无级变速旋转以保证膜层均匀性%基底平板玻璃经丙酮酒精混合溶液超声清洗"尺寸为
DCD&EBC等多种电子显示器件&太阳能电池&电加热玻璃和高层建筑物窗口玻璃%此外4!@薄膜对微
波还具有强烈的衰减作用"这在军用仪器设备的电
9::<<$9::<<$H<<%溅射前真空室本底真空
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